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半導体#12539;液晶産業用の超純水製造システムの新提案

机译:半導体#12539;液晶産業用の超純水製造システムの新提案

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摘要

以上,半導体・液晶工場で使用される超純水製造システムについての基本的な説明と,最近の新技術や分析法の提案について簡単に紹介した。 すでに述べたように,超純水製造システムに対しては水質の向上ばかりではなくイニシャルコスト,ランニングコスト,スペース,メンテナンスコスト廃棄物量の削減などいろいろな面からの改良・開発の要求がある。 これらの要求に沿うような,ますます高性能な超純水製造システムの開発が望まれる。

著录项

  • 来源
    《用水と廃水》 |2003年第7期|24-32|共9页
  • 作者

    杉山 勇;

  • 作者单位

    野村マイクロ・

    サイエンス㈱開発研究所開発部  〒243-0021 神奈川県厚木市岡田2-4-37;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 日语
  • 中图分类 市政工程;
  • 关键词

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