室温原子層堆積法とその応用

摘要

筆者はこれまでSiのエピタキシャル薄膜の低温成長の研究を端緒に、高品質な薄膜をいかに低温で作るかをテーマとした研究を30年間続けてきた。今日において、金属酸化物薄膜の室温原子層堆積技術を開発するに至り、その産業応用の研究を展開している。あらゆる電子デバイスは薄膜の接合であり、高品質な膜を低温で形成すること、急峻に制御された界面とすることはデバイスの性能向上と高信頼化に寄与する。本発表では、室温原子層堆積技術の開発と応用事例について紹介する。