塩，酸発生剤，レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

摘要

良好なラインエッジラフネス（LER)を有するレジストパターンを製造できる次式(1-5)で表される塩を含む酸発生剤を含むレジスト組成物. 良好なCD均一性（CDU)を有するレジストパターンを製造できる次式(1-5)で表される塩を含む酸発生剤を含むレジスト組成物.