Зависимость пористости тонких пленок от условий напыления: результаты молекулярно-динамического моделирования

摘要

Предложенный ранее метод анализа пористости атомистических кластеров по координатам атомов и их радиусам применен к пленкам диоксида кремния, напыленным при различных условиях. Показано, что в случае напыления с низкой энергией осаждаемых атомов до нескольких процентов от объема пленки может быть занято атомами и молекулами, имеющими радиус Ван-дер-Ваальса около 0.2 нм. Максимальный размер пор при низкоэнергетическом напылении достигает нескольких нанометров. Увеличение температуры подложки с 300 до 500 К уменьшает пористость низкоэнергетических пленок. Увеличение энергии осаждаемых атомов приводит к уменьшению пористости.