ナノエレクトロニクスのアーキテクチャ

摘要

エレクトロニクスの小型化が進むなか、論理素子及び配線のパターン寸法はナノメートルのオーダーにまで迫ろうとしている。 こうした素子を製造するに当たっては、ナノ世界を律する厳しい要求条件に適したアーキテクチャが必要となる。 主な課題は次のとおりである。 （1）ナノ回路の製造方法（光リソグラフィーなどの現行技術はナノスケールでは通用しない）、（2）高集積密度に伴う多大な発熱を低減する方法、（3）ナノエレクトロニクスの製造及び動作において必ず発生するエラーの扱い。 本稿では、これらの要求条件を満たすアーキテクチャの研究成果について概説する。