КИНЕТИКА МЕТАЛЛИЗАЦИИ И РАССЕИВАЮЩАЯ СПОСОБНОСТЬ ЭЛЕКТРОЛИТОВ ПРИ ПОЛУЧЕНИИ НАНОКОМПОЗИТОВ НА ОСНОВЕ А{sup}(III)В{sup}V

摘要

Проведено исследование кинетики осаждения в нанопоры при получении нанокомпозитов n-InP - оксид металла. Установлена взаимосвязь между кинетикой химического осаждения и равномерностью металлизации наноструктурированной поверхности, полученной электрохимическим растворением n-InР. Результаты проведенного исследования демонстрируют, что повышение равномерности получаемых слоев (повышение нанорассеивагощей способности электролитов химической металлизации) при изготовлении нанокомпозитов A{sup}(III)B{sup}v- оксид металла (меди, серебра) определяется скоростью химического процесса (которая определяется составом и концентрацией электролита, а также его температурой). При этом показано, что нанорассеивающая способность повышается при снижении скорости осаждения. Анализ полученных результатов позволяет также заключить, что равномерность заполнения пор является одним из основных факторов, определяющих не только высокую степень, но и саму возможность их заполнения осаждаемым материалом, так как при высокой скорости может наблюдаться перекрывание верхней части пор, что делает невозможным их последующее заполнение.