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【24h】

高電圧·大容量真空インタラプタ(VI)の基礎技術

机译:高电压和大容量真空断路器的基本技术(VI)

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摘要

真空放電現象についての理解が深まるとともに,真空インタラプタ(VI)の小形化·高電圧化·大容量化が進hできた。VIに関連する技術にはアーク現象の観測·電極材料の分析·電界解析·磁界解析·帯電測定など様々なものがある。現在,高電圧·大容量のVIには縦磁界方式によるアーク制御と銅-クロム系の電極材料の組み合わせが採用されている。縦磁界方式は,アークを電極面上に均一に拡散させることで遮断性能を向上させ,銅-クロム系の電極材料は遮断性能と耐電圧性能に優れている。これらに加えて絶縁筒など絶縁材料の研究や開閉サージ現象などの解析を進めている。
机译:对真空放电现象的理解加深,真空断路器(VI)的较小度,高电压和大容量能够进行前进。 与VI相关的技术包括各种弧现象观察和电极材料分析,电场分析,磁场分析和充电测量。 目前,采用电弧控制和基于铜 - 铬基电极材料的组合用于高电压和大容量VI。 纵向磁场方法通过将弧形均匀地扩散到电极表面上来改善阻塞性能,并且基于铜 - 铬基电极材料堵塞性能和耐电压性能优异。 除此之外,我们还推广分析,如研究和开放/关闭浪涌现象,如绝缘缸。

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