Изучение ядерно-физическими методами металлосодержащих (Ti, Co)-покрытий, осажденных методом ионного ассистирования на кремний

摘要

Методами резерфордовского обратного рассеяния, резонансной ядерной реакции, массспекгрометрии ионизованных нейтральных атомов и компьютерного моделирования исследованы композиционный состав и распределение элементов по глубине в Ti/Si и Co/Si структурах, полученных ионно-ассистированным осаждением при облучении собственными ионами. Установлено, что сформированные покрытия содержат атомы осаждаемого металла (2-5 ат.%), водорода (11-20 ат.%), углерода (25-50 ат.%), кислорода (20-30 ат.%) и материала подложки (~10 ат.%). Элементы Н, С, О частично находятся в покрытиях в химически несвязанном состоянии.