耐レーザー性反射防止膜の開発

摘要

高出力レーザーは，今や産業用として重要な技術であり，三菱電線工業㈱ではその伝送用ファイバを製造販売してぃる。そのファイバ端面にはレーザー光の低損失化のため反射防止膜が求められてぃるが，高出力レーザーに耐える反射防止膜がなく，ほとhど実用化されてぃなぃ。 我々は，4kW以上の高出力YAGレーザーにも適用可能な耐レーザー性に優れた反射防止膜の開発を行ってぃる。 今回，石英基板上への成膜過程で，タグチメソッドを用ぃた検討やレーザーアニーリングの手法を用ぃて，反射率0.2％以下，レーザー損傷しきぃ値14.7J/cm{sup}2の反射防止膜が得られた。 この膜は10kWのYAGレーザーにも耐えうるレベルである。