低摩擦係数を兼備の平滑緻密コーティング膜＝日本電子工業＝

摘要

日本電子工業の「NEO Cコーティング」は、豊田中央研究所で開発されたDLC-Si技術を実用化したもの。真空中で得られる低温プラズマを利用して、種々の製品にトライボロジー特性に優れたDLC（ダイヤモンドライクカーボン）膜を高い密着力で気相めっきする。処理後の製品では、硬質セラミックコーティング膜と同様の高い硬さに加え、低い摩擦係数を兼ね備える平滑で赦密な高性能表面が得られる。複雑な形状を持つ金型、機械部品の凹凸面や内径内面の処理にも対応が容易である。