ЗАЩИТНЫЙ ЭФФЕКТ ТЕПЛОВОЙ ЗАКАЛКИ ОТ ФОТОИНГИБИРОВАНИЯ ФОТОСИНТЕТИЧЕСКОГО АППАРАТА ПШЕНИЦЫ ПРИ ВЫСОКОЙ ТЕМПЕРАТУРЕ

摘要

Исследовали эффект тепловой закалки на термо- и фотостабильность фотосинтетического аппарата пшеницы. Прогрев 15-суточных растений в течение 3 ч при 38—39 °С повышал устойчивость фотосинтеза к совместному действию яркого света и прогрева при 42 °С, но не влиял на устойчивость ксветовому стрессу при 30 °С. Закалка предохраняла от усиленного высокой температурой фотоповреждения наиболее чувствительную часть хлоропластов в листьях и вызывала увеличение количества, длины тилакоидов и доли многотилакоидных гран. Так же увеличивались размеры тилакоидной системы в результате 30-минутного прогрева при 42 °С и 60-минутной экспозиции листьев на ярком свету (370 Вт/м~2 ФАР) при 30 °С. Изменения в структуре хлоропластов не сопровождались изменениями в содержании фотосинтетических пигментов. Сделан вывод, что защитный эффект закалки небыл связан с накоплением зеаксантина и активацией ксантофиллового цикла.