ЭЛЛИПСОМЕТРИЯ TiO_x-ПОКРЫТИЙ, ОСАЖДЕННЫХ В МАГНЕТРОННОЙ УСТАНОВКЕ С НЕСБАЛАНСИРОВАННОЙ МАГНИТНОЙ СИСТЕМОЙ. ВЛИЯНИЕ КОНЦЕНТРАЦИИ КИСЛОРОДА И ДИСТАНЦИИ 'МАГНЕТРОН-ПОДЛОЖКА'

摘要

Методом спектральной модуляционной эллипсометрии исследованы структура и оптические свойства тонких TiO_x-покрытий, осажденных магнетронным методом при различных концентрациях кислорода в плазме, рабочем давлении 0,28 Па и разрядном токе 5,6 А. Установлено, что в зависимости от доли O_2 в плазме формируются 3 типа покрытий: полупрозрачные трехслойные, прозрачные двухслойные и прозрачные трехслойные. Последние имеют плотный контактный слой толщиной до 50 нм, оптические характеристики которого соответствуют кристаллическим анатазу и/или рутилу. Установлены корреляции между шероховатостью, энергией запрещенной зоны и концентрацией примесей в плазме. Отмечено, что при 19 об.% O_2 в плазме осаждаются покрытия с низким показателем преломления (2,347), низкой энергией запрещенной зоны (3,31 эВ) и высокой шероховатостью (16,8 нм), что должно увеличивать фотокаталитическую активность покрытий.