首页> 外文期刊>日本磁気学会学術講演概要集 >CoPtCrSiターゲットのリアクティブスパッタリングによるCoPtCr-SiO_2グラニュラー膜の作製
【24h】

CoPtCrSiターゲットのリアクティブスパッタリングによるCoPtCr-SiO_2グラニュラー膜の作製

机译:磁CoPtCr-SiO_2颗粒膜的由CoPtCrSi靶的反应性溅射制备

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
获取外文期刊封面目录资料

摘要

リアクティブスパッタリングについての先行研究には,(CoPtCr)-(SiO_2; TiO_2; Cr_2O_3)ターゲットの酸素リアクティブスパッタリングを検討した報告がある.しかしながら,酸素の供給源は酸化物のターゲット素材粉と酸素ガスの2種類あり,酸化物形成過程が不明である.本講演では,酸素の供給源として酸素ガスのみを用いたCoPtCrSiターゲットのリアクティブスパッタリングの検討を行ったので報告する.
机译:对反应性溅射的之前的研究有一个报道,该报告检查了(COPTCR) - (SiO_2; TiO_2; CR_2O_3)目标的氧反应性溅射。 然而,氧气源是两种类型的氧化物靶材料粉末和氧气,氧化物形成过程未知。 在这篇讲座中,我们报告了仅使用氧气作为氧气来源的COPTCRSI目标反应溅射。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号