СТРУКТУРНЫЕ ОСОБЕННОСТИ ТОНКИХ ПЛЕНОК ВОЛЬФРАМА, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ

摘要

Механизм конденсации и природа сил сцепления пленок с подложками изучаются уже длительное время, однако теория механической прочности пленок еще не создана. В настоящее время усиленное внимание уделяется исследованиям этих процессов в связи с исключительной важностью их при получении пленок с заданными физическими свойствами, создании управляемых термоядерных реакций и получении сверхвысокого вакуума. Установлено, что для структуры пленок вольфрама, при заданных режимах магнетронного распыления вольфрама на стеклянной подложке, существует ярко выраженная температурная зависимость.