ナノテク手がける新研究所を建設へ2007年完成予定、投資額100億円半導体など先端材料の創出目指す

摘要

日本ゼオンは、ナノテクノロジーなどの次世代技術を研究開発する新研究棟を建設することを決めた。 2005年2月に着工し、2007年3月の完成を予定している。 投資額は建物や付帯設備を含め約100億円。最新の研究機器などを導入し、新事業の開拓に寄与する半導体など先端材料の創出を目指す。