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ナノ構造材料における極低入射電圧走査型電子顕微鏡法と応用

机译:低入射电压扫描电子显微镜及纳米结构材料的应用

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摘要

走査型電子顕微鏡法(Scanning Electron Microscopy : SEM)は試料へ細く収束された電子を照射することで,表面に形成されたナノメートルオーダーの凹凸形状や組成情報を知ることができる手法である.SEM は入射電子線のエネルギーを低く抑えることで試料極表面の情報が選択的に取得されるが,入射電子の低エネルギー化に伴い,主に色収差の影響による分解能劣化が問題となっていた.しかし,近年,対物レンズや電子制御方法の進展によリ低入射電圧高空間分解能SEM (LV-HRSEM)が開発され,低入射電圧であっても1.0 nm以下の空間分解能が得られるまでに至った.このため最近では,材料開発や品質管理などに広く用いられ,その用途はますます広がっている.本稿ではLV-HRSEMを用いた最新技術として減速法,電子のエネルギー選別,軟X線分光法といった技術と同時にナノ構造材料に適用した応用例も紹介する.
机译:扫描电子显微镜(SEM)是一种方法,可以通过照射薄薄的聚焦来了解在表面上形成的纳米顺序的凹凸形状和组成信息。通过抑制入射电子束的能量,信息选择性地获得样品杆表面,但由于入射电子的能量低,由于色差的影响导致的分辨率劣化主要是一个问题。但是,由于物镜和电子控制方法的进展,近年来,已经开发出低入射电压高空间分辨率SEM(LV-HRSEM),即使它是低发生率电压,它也达到了1.0nm或更小的空间分辨率。因此,最近,它广泛用于材料开发和质量控制,其使用越来越扩大。本文还介绍了使用LV-HRSEM应用于纳米结构材料的应用示例的减速法,电子能量分选,软X射线光谱作为最新技术。时间作为技术。

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