レーザーCVDによる超硬コーティングの配向制御

摘要

レーザーCVDは，高強度レーザー照射により活性な化学析出反応場を形成し，高い原料供給量下であっても，高い反応性を保ちつつアルミナコーティングを高速成膜することができる．レーザーCVD の成膜条件を精緻に制御することで，α-アルミナコーティングの選択的配向成長や完全配向成長を実現できる．