オゾン層を破壊しない新しい洗浄剤－フロンの処理と代替物

摘要

CFC-113（クロロフルオロカーボン）は不燃性，速乾性，小さい表面張力（細部に入り込む）の洗浄剤として電子基板などの洗浄や乾燥に重宝されてきた。しかし，それらフロン（炭素に塩素とフッ素だけが付いた沸点の低い物質の総称）は成層圏オゾン層破壊（図1）や地球温暖化の原因となるため，洗浄剤，冷媒，発泡剤などに使用されてきたCFC-113，トリクロロエタンなどが全廃された。特定フロン（オゾン層破壊力の大きなCFC-11，-12，-113など）の製造は中止されたが，回収·分解処理は非常に遅れている。 各種フロンの分解はそれらの不燃性と熱的および化学的安定性により分解処理が容易ではないが，技術はほぼ確立している。 一方，フロンに代わる新しい地球に優しい洗浄剤として，フッ素系化合物を中心とする不燃性非水系洗浄剤の開発が行われてきた。