塩効果を利用した蒸留による混酸廃液からのフツ酸の再生技術の開発

摘要

半導体製造工場におけるシリコンウエハの洗浄工程やエッチング工程ではフッ酸を一成分とする酸混合溶液が多量に使用されている．主な酸混合溶液としては，フッ酸一硝酸系，フツ酸一硝酸一酢酸系であり，これらは液晶製造工程で使用される燐酸を1成分とする酸混合溶液（燐酸一硝酸一酢酸系など）と合わせると年間約300万トン以上が排出されている（環境省，産業廃棄物排出処理状況調査，平成15年度実績）。