蒸着法で作製したNi-Fe系グラニュラー薄膜の微細構造と磁気特性

摘要

高密度に集積化された電子機器内部におけるEMC技術のために，高電気抵抗と高透磁率を有するグラニュラー構造薄膜が研究されている．グラニュラー薄膜は，主にスパッタ法で作製されるが，蒸着法で作製すると，膜構造に顕著な違いが見られることを以前報告した．ここでは，膜構造および磁気特性の制御が容易な材料を模索するために，絶縁物マトリクスの異なるNi-Fe系グラニュラー膜を作製し，その微細構造と磁気特性を調べた結果について報告する．