蒸着法により高速成膜したNi-Feグラニュラー薄膜の微細構造と磁気特性

摘要

スパッタ法により得られるグラニュラー薄膜は，高い透磁率と，金属もしくはアモルファス軟磁性薄膜に比べ高い電気抵抗を有するため，広く研究がなされている．これまで，我々は，生産性に優れる蒸着法によって得られるグラニュラー薄膜においても，良好な軟磁性が得られることを報告してきた．今回は，この蒸着法によるグラニュラー薄膜に関して，成膜速度と軟磁性との関係を調べた結果について報告する．