パルス放電を利用した成膜技術に関する研究－パルス条件と皮膜性状の関係

寺本浩行; 後藤昭弘; 中村和司; 岡根正裕; 荒木健; 中野善和

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パルス放電を利用した成膜技術に関する研究－パルス条件と皮膜性状の関係

机译：脉冲条件与胶片性能与脉冲放电关系的膜形成技术研究

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これまでに，放電のパルス条件が，皮膜形成や皮膜特性に及ぼす影響について報告してきたが，比較的限られた条件のみであった．本報告では，放電のパルス条件である，放電電流(i{sub}e)）と放電持続時間(t{sub}e)に着目して，これらの組合せを変えて成膜した皮膜の断面組織を比較することにより，放電パルス条件と皮膜性状との関係を調査した．

机译：到目前为止，已经报道了膜形成和涂层特征的脉冲放电条件的影响，但条件仅相对有限。在本报告中，通过改变这些组合形成的膜的横截面结构，聚焦在放电电流（I {sub} e））和放电持续时间（t {sub} e），这是脉冲条件放电。通过比较，研究了放电脉冲条件与膜性能之间的关系。

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来源
《電気加工技術》 |2008年第102期|共4页
作者
寺本浩行; 後藤昭弘; 中村和司; 岡根正裕; 荒木健; 中野善和;
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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 jpn
中图分类特种加工机床及其加工;
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1. パルス放電を利用した成膜技術に関する研究－パルス条件と皮膜性状の関係 [J] . 寺本浩行, 後藤昭弘, 中村和司, 電気加工技術 . 2008,第102期

机译：脉冲条件与胶片性能与脉冲放电关系的膜形成技术研究
2. NTTら業界団体を設立光通信技術を研究日本電信電話(株)(NTT、東京都千代田区)、米インテル、ソ二ー(株)(東京都港区)の3社は、新たな業界団体を設立する。光電融合技術を活用したフォトニクス関連技術の研究開発などを推進し、超大容量通信に対応できる光ネットヮーク技術の確立などを目指してハる。3-3プロセッシング領域狙う国内DRAM大手のェルピーダメモリを買収し、大きく飛躍を遂げた米マイクロンテクノロジー。2017年にはサンディスク共同創業者の1人である、Sanjay Mehrotra (サンジエイ·メイロトラ)氏を招聘。経営体制も刷新され、大きく生まれ変わった「新生マイクロン」を全面に押し出した。米サンフランシスコで開催されたプライベートイベント「MlicronInsight 2019」(現地10月24日開催)では、同社のあるべき将来像に対するメッセージが随所に散りばめられていた。 [J] . 半導体産業新聞 . 2019,第2372期

机译：成立了NTT和其他工业集团研究光通信技术的日本电报电话公司（NTT，东京千代田区），英特尔，索尼公司（东京都港区）是三个新的工业集团。建立。促进利用光电子融合技术的光子相关技术的研究和开发，并致力于建立可支持超高容量通信的光网络技术。 3-3处理领域美国Micron Technology在收购了国内主要DRAM公司Elpida Memory之后取得了巨大飞跃。 2017年，我们邀请了Sanjay联合创始人Sanjay Mehrotra。管理系统也进行了改进，我们推出了完全脱胎换骨的“新Micron”。在旧金山举行的私人活动“ Mlicron Insight 2019”（10月24日举行）上，有关公司未来愿景的信息四处散布。
3. 原著論文編論文要旨水環境におけるふん便指標細菌である大腸菌は，環境中で再増殖することが知られており，指標細菌としての妥当性が懸念されている。そこで本研究では，下水処理水が流入する小河川において，下水処理水の流入•混合後の流下過程における大腸菌数の変化について調査した。大腸菌のフラックスは，上流地点と下水処理水の合計量よりも.その下流地点において増大する傾向を示した。また，下流地点の底質で高密度の大腸菌数が検出された。そこで，パルスフィールド-ゲル電気泳動法によって大腸菌の遺伝子型の類似性を評価したところ，上流の河川水，河床付着物，ならびに底質から単離した大腸菌において遺伝子型の一致する株が確認された。以上のことから，下水処理水の影響を強く受ける小河川では，大腸菌が河床の付着物や底質に生残•蓄積しており，再増殖する可能性も否定できないことが示唆された。河川における大腸菌数によるふん便汚染評価の解釈には，留意する必要がある。 [J] . 水環境学会誌 . 2018,第3期

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