新しい非酸化物セラミックスの材料開発--先進セラミックスの粉末·焼結と基礎理論--

摘要

炭化ケイ素（SiC）や窒化ケイ素（Si_3N_4）などの非酸化物セラミックスは、今、精密機器や半導体製造用材料として新しい用途を見つけ、研究が活発です。 それには、高純度の微粉末や大型で完全緻密化の焼結技術が要求されています。 私達は、粉末合成や焼結プロセスの高度化と材料合成に関わる基礎研究を中心テーマとしています。 粉末合成では鉱物原料に替えて、有機液状原料を利用します。 ゾル?ゲルプロセスで樹脂前駆体（プレカーサー）を合成し、高温でSiCなどセラミックス粉末に転換することに成功しました。 極めて高純度で焼結に十分な微粉末を安価に製造できます（図1）。