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机译:用Cu掺杂的石墨锌膜的稳定性:第一个原理研究
Fuzhou Univ Coll Phys &
Informat Engn Fuzhou 350116 Fujian Peoples R China;
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机译:用Cu掺杂的石墨锌膜的稳定性:第一个原理研究
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机译:载流子掺杂铜掺杂ZnO铁磁性的第一性原理研究
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机译:纯净和镍取代的YBA(2)Cu(3)o(7-Δ)薄膜的载体掺杂研究
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机译:掺杂浓度对由化学浴沉积法生长的内在N型ZnO(I-ZnO)和(Cu,Na和K)掺杂P型ZnO薄膜的光学和电性能的影响