リンデ·レンフアC4F8など特殊材料ガスに積極投資

摘要

台湾におけるリンデの合弁子会社リンデ·レンファ（LLH）は、台中溝のパーフルオロシクロブタン（C4F8）の精製·充填プラントと、桃園市観音区のヘキサフクロロジシラン （HCDS）の充填プラントへの追加投資を行 う。C4F8は半導体用エッチングガスもしくはチャンバークリーニングガス、HCDSは薄膜形成の蒸着ガスとして用いられる。