N2O亜酸化窒素低ポリ液晶、IGZO向け13年は一服感、14年以降に期待

摘要

亜酸化窒素の13年出荷量は対前年比3．8％減の1045tで推移したとみられる。半導体·液晶用途が増加傾向ではあるが、依然医療麻酔用途での減少が著しい。半導体·液晶用の亜酸化窒素の出荷量は増加傾向にあるが、これは低温ポリシリコン液晶製造過程での酸化膜形成向けや、「IGZO」の製造過程においてのアニール処理向けでの増加が要因として挙げられる。