パルスDC-PCVD法による最新表面処理技術

摘要

アルミダイカスト金型に要求される性能としては、耐溶損性、耐焼付き性、耐ヒートチェック性などがある。 これらの要求性能に対して、各種の表面処理が金型に適用されている。 当社は1986年に世界に先駆けて、従来の硬質皮膜被覆法とは違う新しいプロセスとして、量産型装置によるプラズマCVD (PCVD)法を開発し、各種金型に応用している。PCVD法は低温で密着性および緻密性に優れた皮膜を複雑形状品につき回り良く被覆できる。 また、PCVD法は真空を破らずに、1回の工程で1つの装置の中で光輝プラズマ窒化などの拡散硬化処理+硬質皮膜という複合処理ができる。 そのため、PCVD法は耐ヒートチェック性と耐溶損性や耐焼付き性の両方の特性を満足させることができ、ダイカスト金型にとっては理想的なプロセスになっている。最近では、TiAlN系多層膜以外にTiAlSiCNO系ナノコンポジット膜の開発により、ダイカスト、チクソモールディングにおける離型剤レス化に大きく貢献できる可能性がでてきている。 そこで、本稿では量産型パルスDC-PCVD装置の構造、各種膜特性および応用例について報告する。