透過率·吸光度を改良した半導体製造用向け高屈折率液体

摘要

三井化学は半導体製造用露光装置向けに屈折率1．642の高屈折率液体を開発した。 次世代の回路線幅30nm台の半導体を製造する液浸露光装置向けの液体材料で、従来材料の屈折率1．635から改善、透過率や吸光度も改良した。 小型装置を倍った材料再生技術にもめどをつけており、同材料の導入メリットとして訴求する。 現在、装置メーカーや研究機関に提案し評価を受けている。