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【24h】

Optoelectronic properties of Cr doped ZnO thin films deposited by RF magnetron sputtering using a powder target

机译:RF磁控溅射使用粉末靶沉积CR掺杂ZnO薄膜的光电性能

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摘要

In this work Cr doped ZnO thin films were deposited onto glass substrates by RF magnetron sputtering using a powder target at room temperature in order to study the effect of Cr concentrations on structural, optical and electrical properties.
机译:在该工作中,CR掺杂的ZnO薄膜在室温下使用粉末靶通过RF磁控溅射沉积在玻璃基板上,以研究Cr浓度对结构,光学和电性能的影响。

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