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シリコーンフリー離型フィルム「コニニピール~R」の技術と特長

机译:硅胶自由释放薄膜的技术和特点“Konni Peel至R”

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摘要

離型フイルムは,セラミックコンデンサ製造工程,偏光板などの光学フイルム,各種プロテクト·マスキングフイルム,ラベル,粘着テープ,基板製造工程など様々な分野に使用されており,各種製品の製造において,欠かせない存在となっている。離型フイルムほ,シリコーン系とシリコーンフリー系に大別できるが,その優れた剥離力とコストパフォーマンスにより,シリコーン系の離型フイルムが主流である。しかし,シリコーンの転写による汚染を嫌う用途は意外に多い。
机译:剥离膜在诸如陶瓷电容器制造工艺的各种领域中使用,光学膜如偏振片,各种保护掩模膜,标签,粘合剂胶带和基板制造工艺,并且在其各种产品的制造中是必不可少的是存在。 尽管可以大致分为剥离膜,硅氧烷系统和硅树脂系统,因此硅氧烷基脱模膜是由于其优异的剥离力和成本性能而主流。 然而,令人惊讶的是常用于硅氧烷的转录抑制污染。

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