机译:使用多孔硅模板和高分辨率电子束光刻制造的NBN超导纳米机构
Univ Roma Tor Vergata Dipartimento Fis I-00133 Rome Italy;
Chalmers Univ Technol Quantum Device Phys Lab Dept Microtechnol &
Nanosci SE-41296 Gothenburg Sweden;
CNR SPIN Salerno Via Giovanni Paolo 2 132 I-84084 Fisciano SA Italy;
Natl Res Nucl Univ MEPHI Kashirskoe Highway 31 Moscow 115409 Russia;
Belarusian State Univ Informat &
Radioelect P Brovka 6 Minsk 220013 Byelarus;
Belarusian State Univ Informat &
Radioelect P Brovka 6 Minsk 220013 Byelarus;
Chalmers Univ Technol Quantum Device Phys Lab Dept Microtechnol &
Nanosci SE-41296 Gothenburg Sweden;
CNR SPIN Salerno Via Giovanni Paolo 2 132 I-84084 Fisciano SA Italy;
porous silicon; electron beam lithography; one-dimensional superconductivity; quantum phase slips;
机译:使用多孔硅模板和高分辨率电子束光刻制造的NBN超导纳米机构
机译:电子束光刻技术制备的MgB2超导纳米结构
机译:电子束光刻技术制备的超导$ {rm MgB} _ {2} $纳米结构
机译:将电子束光刻技术制造的硅波导中的光传输损耗降至最低的曝光策略研究
机译:由电子束光刻制造的均匀纳米表面施加的脂质域像素化图案。
机译:电子束与聚焦离子束光刻技术制备的等离激元天线的比较研究
机译:使用无阻电子束光刻工艺在硅上制造亚微米硅化物结构的方法
机译:利用高分辨率电子束光刻和分子束外延制作亚50nm手指间距和宽度高速金属半导体金属光电探测器