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机译:源自PS-PDMS嵌段共聚物图案的高纵横比致密堆积15至10nm以下硅特征的低温等离子体蚀刻
block copolymer; RIE; silicon; chromium hard mask; cryogenic etching;
机译:源自PS-PDMS嵌段共聚物图案的高纵横比致密堆积15至10nm以下硅特征的低温等离子体蚀刻
机译:使用自组装PS-b-PAA Diblock共聚物掩模通过等离子刻蚀制造黑色硅的硅图案
机译:聚(2-乙烯基萘)-嵌段-聚(丙烯酸)嵌段共聚物:自组装图案形成,排列和通过等离子蚀刻转移到硅中
机译:使用用于先进CMOS技术的嵌段共聚物进行自组装构图:等离子蚀刻工艺的优化
机译:用于在硅上构图高介电常数材料的等离子体蚀刻化学和反应机理。
机译:嵌段共聚物胶束膜引导金纳米粒子的表面附着及其在硅刻蚀中的应用
机译:嵌段共聚物特征尺寸对硅反应离子蚀刻图案转移的影响