机译:用于光刻胶中记录的光栅的原位开发
机译:用于光刻胶中记录的光栅的原位开发
机译:原位监测透明基板上矩形光致抗蚀剂光栅的发展
机译:光刻胶中亚微米光栅结构开发过程中的原位终点检测
机译:从用于工业EUV光刻胶开发的强大研究平台,到通过光刻实现的世界纪录分辨率:Paul Scherrer研究所的EUV干涉光刻
机译:光刻胶中的周期性集成光学结构:在光栅耦合器中的应用。
机译:使用细胞友好的光致抗蚀剂和空间调制的光原位细胞的细胞分离。
机译:高纵横比光刻胶光栅中的定向弹性波传播:液体渗透和老化
机译:采用sU-8光刻胶的220-GHz片状光束放大器光栅的UV-LIGa微加工