フォトニック結晶スローライトデバイスへのCMOSプロセス適用と加熱による遅延チューニングの応用

摘要

我々は精度，均一性，再現性に優れたCMOSコンパチブルプロセスにより，フォトニック結晶導波路（PCW）スローライトデバイスを作製した．スポットサイズ変換器の集積により，外部光学系とPCWの結合効率を大幅に改善した．また，PCW近傍に集積した個別制御可能な複数のヒーターの加熱により，PCW面内に所望の温度分布を形成し，これによる遅延チューニングを実証した．またこのような加熱を用いた遅延チューナブルデバイスを，光相関計における従来の低速な（～10Hz）機械可変遅延と置き換え，高速な（＞1kHz）繰り返し周波数において相互相関波形を観測した．