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ウェーハ温度制御による高精度深孔エッチング

机译:通过晶片温度控制进行高精度的深孔蚀刻

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摘要

本稿では、フッ素系不活性液体を冷媒として使用した従来のウェーハ冷却技術に比べて、高効率冷却と高速温度制御が可能な直接膨張式(以下、直膨式)の冷却技術を検討した結果について述べる。また、試作した直膨式の冷却システムを用いてエッチングの進行に伴ってウェーハ温度を制御することで、ホール内のラジカル輸送制御を行い、エッチングの性能向上を検討した結果について紹介する。
机译:在本文中,我们讨论了研究与使用氟基惰性液体作为制冷剂的常规晶圆冷却技术相比能够实现高效冷却和高速温度控制的直接膨胀式(以下称为直接膨胀式)冷却技术的结果。描述。另外,我们将介绍通过使用原型直接膨胀式冷却系统控制晶片温度,通过控制晶片温度来控制孔中的自由基迁移来检查蚀刻性能改善的结果。

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