LCD製造における静電気対策-静法電気対策の基本フローと除電技術

摘要

超LSIやLCD等の電子デバイス製品の製造環境においては、微粒子濃度、原子·分子状不純物濃度、微振動、静電気、温湿度変動、磁場変動といったあらゆる環境構成要素を厳しく管理しかナればならない。 中でも静電気は広範囲の製造過程において発生している。 空気中におけるウェハやガラス基板の搬送ハンドリング時や高温プロセス後の冷却時、さらには製造装置内の不活性ガスあるいは減圧雰囲知こおいても発生し様々な障害をもたらしている。 特に、絶縁体であるガラス基板を使用するLCD製造においては、静電気の影響は非常に大きい。 静電気カによるウェハ表面への浮遊粒子の付着促進、静電気放電によるデバイス破壊は製造歩留まりに大きく影響する重大な障害となっている。