パッシブシェル付マルチシェルシールドにおける能動補償効果

摘要

本論文ではパッシブシェル付きマルチ?エル構造の磁気シールドに対してASFの向上を図るために，能動補償法の効果を検討した。 シェルの組み合わせ方と低周波軸方向磁界がシールド内へ伝播する際の顔隠位相特性ついて測定を行った結鼠各シェルに磁気シェイキングを施すことで円筒シェル内での磁界の位相進みを抑制することがわかった．また磁気シェイキングを行わないパッシブシェルも最内に置くことで，磁性体のヒステリシスが無視できるほど小さくなるために，同様の効果が得られることがわかった。パッシブシェル付きマルチシェルシールドに対して能動補償法を加えることでASFの値が中心部付近で補償前に比べて，約40倍の12，000という高い性能が実現でき，TSF，ASF共に大きく，バランスの取れた円筒磁気シールドが実現できることが分かった。