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Получение  и  исследование  тонких  пленок  нитрида  бора

机译:氮化硼薄膜的制备与研究

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摘要

It is shown the basic possibility of thin BN filmsproducing as a result of reaction between boron compounds andammonia products of decomposition in RF-discharge. Effect ofpressure of reagent gases and electric discharge parameters onthe composition, thickness and structure of the thin films is investigated.
机译:结果表明,由于硼化合物与射频放电中分解的氨产物之间的反应而产生薄的氮化硼薄膜的基本可能性。研究了反应气压力和放电参数对薄膜组成,厚度和结构的影响。

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