透過型電子顕微鏡を用いたガス雰囲気下高温その場観察

摘要

今回開発したガス導入および加熱機構付試料ホルダにより，ガス雰囲気（圧力10~（-2）Pa以下）および加熱（温度1200K程度以下まで可能）下においてSiの組織変化のTEM観察および状態変化のEELS分析を行った．本技術ほ熱ドリフトの影響が小さく，安定的な高分解能観察が可能な技術であることが明らかとなった．また温度·圧力の試料条件のうち，特にガス圧力について圧力10~（-2）Paから10~（-5）Paの条件を詳細に制御が可能で，反応素過程の変化点を捉えるのに有効であると考えられる．今後，本技術を種々の材料へ適応し，加熱ガス下での原子レベルでの解析により材料開発へとつなげてゆく．