シリカメゾ多孔体を触媒とするスチレン類の選択的シスジヒドロキシル化

摘要

シリカメゾ多孔体MCM－41存在下，2－スチルインデン（1）にV_2O_5と過酸化水素水を作用させると，1の5員環の水和が進行し一対応するcis－ジオールが選択的に得られることを見出した。 この反応がV_2O_5/H_2Oによる二重結合のエポキシ化と水和の辿統反応であることを明らかにし，これを基に，MCM-41がスチレンオキシド類のcis選択的水和触媒となることを認めた．電子的性質の異なる種々の1－フエニルシクロへキセンオキシド誘導体を用いてcis選択性の変化を検討したところ，MCM-41系では高い一般性でcis-ジオールが得られた．これは，均一系反応で電子供与基が間換した場合のみcis－ジオールが得られることと対照的であった．