CVDダイヤモンド薄膜のESR研究

摘要

ダイヤモンドは優れた物性他をもつ半導体材料として別待されている．半導体としての実用化には、半導体材料としての高品質化やドーピング技術の向上が必要である．近年，高温高圧法で合成した人工ダイヤモンド基板上に，ダイヤモンド単結晶薄膜をマイクロ波プラズマ化学気相堆積（chemical vapor deposition:CVD）法によってホモエピタキシャル成長させる合成法により，著しい進歩がなされてきた．