Фотодинамическое воздействие излучения с длиной волны 405 нм на клетки микроорганизмов при их сенсибилизации металлопорфириновыми соединениями

摘要

Изучалась фотодинамическая активность фотосенсибилизаторов на основе металлопорфиринов. Созданы и охарактеризованы новые металлопорфириновые соединения, проанализированы квантовые выходы образования синглетного кислорода. Показано, что использование металлопорфиринов с ионами Zn и бутилового радикала в 3-м и 4-м положениях пиридинового кольца при фотодинамическом воздействии эффективно уменьшает (на 90% - 99%) численность условно-патогенных бактерий, таких как Staphylococcus aureus (антибиотико-чувствительный и антибиотикоустойчивый штаммы), Staphylococcus simulans, Escherichia coli.