スパツタ法による低反射ガラスの作製

摘要

光学薄膜の代表選手である反射防止膜をスパッタリング法で形成しようとすると，低屈折率材料であるSiO{sub}2がアーキング（ターゲット表面での異常放電）の問題でまともに成膜できず，仮に（RFスパッタなどで）できたとしても成膜速度が遅い，という問題があった．しかし，この15年ほどの間に絶縁性材料の高速成膜についての大きを技術的進歩が見られ，これらの問題が解決されるとともに，従来の透明多層構造から脱却する新しい反射防止膜構成として光吸収性の反射防止膜が実用化された．本稿ではこれらについて概観する．