最新の有害ガス除去技術(20)：空気清浄技術

摘要

原子力産業，半導体，光ファイバ，ハードディスク製造工場などでは，製品の品質確保の面から比較的高度な空気清浄空間が要求される。 またホテル，事務所などへ取り入れる外気および換気の処理も必要となってきている。 空気清浄空間をつくりだす際に取り入れる外気中には浮遊塵埃，海塩粒子，SO{sub}x，NO{sub}x，HCl，NH{sub}3，Cl{sub}2，ダイオキシンなどの有害物質および臭気などが含まれており，これらが設備や製品に各種のトラブルを発生させたり，人に対して有害性ないしは嫌悪感を与えたりすることがある。 最近，ビルやホテルなどの取入外気および還気中の有害物質，研究所の実験室，動物飼育室および駐車場などから排出される低濃度の有害物質や臭気についても問題化している。 これらをあらかじめ除去する装置の原理，設計方法および実施例を紹介する。