ЛОКАЛИЗАЦИЯ И ХИМИЧЕСКОЕ СОСТОЯНИЕ ТРЕТЬЕГО ЭЛЕМЕНТА (Zn, W) В НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЯХ Ni-Zn-P, Ni-W-P И Co-W-P, ПОЛУЧЕННЫХ ХИМИКО-КАТАЛИТИЧЕСКИМ ОСАЖДЕНИЕМ

摘要

Описаны покрытия Ni-P и Co-Р, полученные химико-каталитическим осаждением, модифицированные введением дополнительных элементов (Zn и W). Дан обзор характерных изменений свойств многокомпонентных покрытий в связи с особенностями соосаждения третьего металла. На основе согласующихся между собой данных просвечивающей электронной микроскопии, микродифракции и прецизионного рентгенодифракционного анализа показано, что тип структуры и параметры кристаллической решетки пленок Ni-Me-P и Co-Me-P практически идентичны таковым для чистых металлов Ni и Co. Рентгенодифракционный анализ не выявил какой-либо примесной фазы. Локализация третьего элемента была установлена с помощью просвечивающей электронной микроскопии и энергодисперсионной рентгеновской спектроскопии. Сделан вывод о сегрегировании Zn и W вместе с P по межкристаллитным границам. Прежние исследования методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и электронной оже-спектроскопии показали, что внутри покрытий Zn частично окислен, а W находится в атомарном состоянии. Методом просвечивающей электронной микроскопии было обнаружено, что в покрытиях Ni-W-P и Co-W-P кристаллиты состоят из пластинок манометровой толщины.