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磁性多層膜における磁気特性のスパッタガス依存性

机译:溅射气体对磁性多层膜中磁性的依赖性

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摘要

磁性多層膜の巨大磁気抵抗効果(GMR)や垂直磁気異方性などの磁気特性は成膜時のスパッタ条件に大きく依存することはよく知られている。 しかし,成膜時におけるプラズマのどのようなパラメータが多層膜の界面構造や磁気特性に影響を及ぼしているかについての定量的な理解にはまだ十分とは言えない。 本研究では、プラズマ中のAr,Krイオンの密度やエネルギーの分布を実測するとともに,磁性多層膜を作製し,その磁気特性を測定して,プラズマ状態と磁気特性の相関について検討した。
机译:众所周知,磁性多层膜的诸如巨磁阻效应(GMR)和垂直磁各向异性的磁性在很大程度上取决于膜形成时的溅射条件。然而,不能说足以定量地理解在成膜时等离子体的哪些参数影响多层膜的界面结构和磁性能。在这项研究中,我们测量了等离子体中Ar和Kr离子的密度和能量分布,制备了磁性多层膜,测量了其磁性,并检查了等离子体状态与磁性之间的相关性。

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