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2008 RadTech UV & EB Technology Expo & Conference Slated for May 4-7 in Chicago

机译:2008 RadTech UV&EB Technology Expo&Conference定于5月4日至7日在芝加哥举行

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摘要

The 2008 RadTech UV & EB Technology Expo & Conference, the world's largest ultraviolet (UV) and electron beam (EB) technology exposition and conference, will take place May 4-7, 2008, at McCormick Place in Chicago, IL. RadTech will include a technical conference consisting of over 200 paper presentations and a commercial exhibition featuring more than 125 exhibitors. For the first time at the conference, there will be a day-long program devoted to technical developments from Japan and China (in simultaneous translation), featuring updates on chemistry, electronics, special developments on lotus-dirt resistance, and more UV/EB-related areas.
机译:全球最大的紫外线(UV)和电子束(EB)技术展览会暨会议2008 RadTech UV&EB Technology Expo&Conference,将于2008年5月4日至7日在伊利诺伊州芝加哥的麦考密克广场举行。 RadTech将包括一个技术会议,包括200多个论文演示,以及一个由125个以上参展商组成的商业展览。首次在会议上,将有一个为期一天的计划,专门讨论日本和中国的技术发展(同声翻译),包括化学,电子学方面的最新进展,抗lotus污的特殊发展以及更多的UV / EB相关领域。

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