UV-Laser-Systeme im cw-s-Puls- und fs-Betrieb zur Erzeugung periodischer Index-Nanostrukturen in optischen Fasern

摘要

Zum Einschreiben von Index-Nanostrukturen in UV-photoempfindliche Glasfasern benoetigt man UV-Laser hoher Pulsenergie oder hoher cw-Leistung, mit ausreichender zeitlicher und raeumlicher Kohaerenz und hoher Strahlqualitaet. Damit koennen Faser-Bragg-Gitter (FBG) erzeugt werden, die z.B. die Realisierung von optischen Dehnmessstreifen (O-DMS), von Schwingungssensoren und Temperatursensoren aus optischen Fasern ermoeglichen. Fuer die erforderliche Mixtur von Laser-Eigenschaften kommen frequenzverdoppelte cw-Arlonenlaser, ns-Exciroerlaser im Master-Oszillator/Power-Amplifier(MOPA)-Betrieb oder fs-TiSa-Lasersysteme zum Einsatz. Es wird ein Ueberblick ueber die spezifischen Parameter der untersuchten Lasersysteme gegeben und die anwendungsspezifischen Vorteile der Lasersysteme werden diskutiert. Aktuelle Ergebnisse beim Einschreiben von Faser-Bragg-Gittern mit diesen Lasersystemen bezueglich der erreichbaren Gitterparameter (Reflektivitaet, Bragg-Wellenlaenge, spektrale Breite) in den interessierenden Glasfaser-Materialien werden dargestellt.