半導体製造装置·材料市場各論：マスク関連製造装置

摘要

また，EB 描画装置は，最先端の装置しか売れない傾向がある。非常に緻密な作業をするため，厳密に管理された環境でなければ使えないが，同じ描画装置でもレーザ型の場合は，真空状態なども不要で，比較的使いやすい。さらにEB 描画装置は，装置1 台の価格が十数億円と高額であるため，価格の安いレーザ描画装置への注目が高まっている。