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Photoelectrochemically Studying the Formation of Oxide Films on Titanium Alloys with Cobalt, Chromium, and Copper

机译:用光电化学研究钴,铬和铜的钛合金上氧化膜的形成

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摘要

The regularities of oxide film formation on Ti50Co, Ti45Cr, and Ti50Cu alloys are voltammetrically studied in boric-borate-buffer and sodium sulfate solutions at temperatures of 25 and 50 deg C with concurrently measuring the photocurrents. The band gaps of the films are determined.
机译:在硼酸硼酸盐缓冲液和硫酸钠溶液中,在25和50摄氏度的温度下,通过伏安法对Ti50Co,Ti45Cr和Ti50Cu合金上的氧化膜形成规律进行了伏安研究,同时测量了光电流。确定膜的带隙。

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